특허청이 중국, 일본 특허청과 공동으로 개최하는 ‘한중일 디자인 포럼’이 오는 5월 16일 오전 9시부터 서울 한국과학기술회관(12층) SC 컨벤션센터에서 열린다. 

한국, 중국, 일본의 특허청 전문가들이 디자인보호와 관련된 주요 현안사항과 이에 대한 해결방안을 논의하기 위해 결성된 ‘한중일 디자인 포럼’은 올해로 8회차를 맞이했으며 매년 3국이 순차적으로 개최, ‘15년에는 도쿄, ’16년에는 북경에서 열린 바 있다. 

올해 디자인포럼은 ‘캐릭터 디자인의 보호(Legal Protection of Character Design)’라는 주제로 3국 캐릭터 업계의 최근 실태를 진단하고 대안을 모색하면서 캐릭터의 법적 보호를 위해 디자이너 등이 숙지해야 할 지식재산권 정보들을 소개할 예정이다.

주요 내용으로는 지재권을 통한 캐릭터 디자인의 보호, 중국의 만화이미지 디자인의 보호 및 일본 캐릭터의 법적 보호, 기업의 캐릭터 IP 침해 및 대응사례, 중국 캐릭터산업과 지식재산권 유통 및 이용실태, 일본 애니메이션의 해외진출 등이며 해당분야 전문가들의 주제발표와 토의로 진행된다.

이번 포럼은 모두 동시통역으로 진행되며 참가자들의 궁금증을 해소하기 위한 현장 질의/응답 시간도 마련된다. 디자이너, 기업 지재권 담당자, 변리사 등 캐릭터디자인 보호에 관심 있는 사람이라면 누구든지 특허청 홈페이지를 통해 무료로 참가 신청할 수 있다.

특허청 최규완 상표디자인심사국장은 “4차 산업혁명 시대를 맞아 기계로 대체될 수 없는 인간의 창조 활동, 특히 캐릭터 디자인과 같은 문화산업은 미래에 더욱 그 가치가 높아질 것이다”며 “이번 포럼을 통해 캐릭터 디자인의 권리보호에 대한 인식이 널리 확산되어 건전한 창작활동 조성에 도움이 되기를 바란다”고 밝혔다.

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